Primo iDEA^?（即“双反映台刻蚀除胶一体机”）源于6731顶级游戏的一个新理想，，，，，，即：将一个或两个双反映台D-RIE或AD-RIE工艺模？？？？？？椤⒑鸵桓鲈冻痰壤胱犹逶闯浩鳎―sA）反映腔整合在统一个平台上。。。。。。。6731顶级游戏的远程等离子体源除胶器选取了双反映台腔体设计，，，，，，顶置的远程等离子体源（RPS）产生的活性反映物质，，，，，，被均匀地输送到晶圆表表以移除光刻胶。。。。。。。这种步骤可能提高光刻胶移除效能，，，，，，并降低等离子体直接接触晶圆的机遇。。。。。。。这对于一些客户来说尤为沉要，，，，，，其芯片器件对表表电荷极其敏感，，，，，，存在等离子体诱发危险（PID）的潜在风险。。。。。。。为相识决这方面的顾虑，，，，，，客户通常要支出巨大的人力和物力批改整合规划，，，，，，或者为每个步骤（例如光刻胶移除）添置专用设备。。。。。。。占有Primo iDEA整合系统后，，，，，，客户能够在统一个平台上矫捷地进行芯片刻蚀和光刻胶移除，，，，，，显著削减设备占地面积，，，，，，提逾越产效能。。。。。。。Primo iDEA提供了拥有成本优势的解决规划。。。。。。。