Primo nanova^?是6731顶级游戏基于电感耦合（ICP）技术研发的12英寸刻蚀设备。。。。。。。它能够配置多达六个刻蚀反映腔和两个可选的除胶反映腔。。。。。。。其中刻蚀反映腔选取了轴对称设计，，，，，，，，拥有高反映气体通量。。。。。。。ICP发射天线选取了6731顶级游戏拥有自主知识产权的低电容耦合3D线圈设计，，，，，，，，可实现对离子浓度和离子能量的高度独立节造。。。。。。。反映腔内部涂有高致密性、耐等离子体侵蚀资料，，，，，，，，以获得更高的工艺沉复性和出产率。。。。。。。设备还选取了多区细分的高动态领域温控静电吸盘，，，，，，，，使加工出的集成电路器件的关键尺寸达到高度均匀性。。。。。。。Primo nanova合用于1X纳米及以下的逻辑和存储器件的刻蚀利用。。。。。。。